扫描电镜或真空设备内的离子溅射镀膜与刻蚀装置

摘要

扫描电镜或真空设备内的离子溅射镀膜与刻蚀装置，具有摄像头、扫描电镜物镜、平面反射镜、靶集成离子枪等。在真空室中设有通气、通电法兰接口和观察窗，靶集成离子枪置于真空室内，靶材由支架固定于离子枪的前端，平面反射镜置于样品座的侧上方。靶集成离子枪与通电法兰之间有高压导线连接，氩气由通气法兰接口送进靶集成离子枪。氩气在靶集成离子枪内经高压电离、加速，或再经磁透镜汇聚形成离子束轰击靶材，溅射出的靶材原子撞击样品的表面并形成镀层；或者调整样品台的高度，使离子束直接刻蚀挡板后面的样品表面。本装置的加入不对电镜所具有的功能产生任何影响，并使离子溅射镀层表面均匀致密、洁净，满足纳米结构表面的形貌观察。