公开/公告号CN201003946Y
专利类型
公开/公告日2008-01-09
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN200720067116.2
申请日2007-02-07
分类号G01B9/02(20060101);
代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-21 22:56:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-04-01
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权) 放弃生效日:20070207 申请日:20070207
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
2008-01-09
授权
授权
机译: 用于确定测量对象的表面形貌的干涉测量装置和干涉测量方法
机译: 用于在物体干涉测量中使用的测量速度和精度提高方法,涉及在干涉图像曝光期间产生物体手臂的光学距离变化,以使图像保持不变
机译: 干涉测量法测量亚纳米精度的平面分离