法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1988-06-01
审定
审定
1986-07-02
公开
公开
1986-06-10
实质审查请求
实质审查请求
机译: 用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译: 原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜的卤化物掺杂源,制备卤化物掺杂源,原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜和卤化物的方法用该方法制成的掺杂氧化物薄膜
机译: 原子层沉积法用卤化物元素部分掺杂氧化物薄膜的卤化物掺杂源,制造卤素掺杂源的方法,使用卤化物掺杂源部分掺杂氧化物的薄膜和原子层沉积膜的方法掺杂有方法