法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1988-06-08
授权
授权
1987-12-02
公开
公开
机译: 光学元件的制造方法,由该方法制造的光学元件,制造测角器的方法以及使用该光学元件的像差测量仪器
机译: 反射型光学元件的制造方法,反射型光学元件,Euv光刻设备以及光学元件和Euv光刻设备的操作方法,相移的确定方法,层厚度的确定方法以及实施该方法的设备
机译: 制造光学元件的方法,光学元件,装载有该元件的检查设备,以及由该检查设备提供的曝光设备和点衍射类型干涉测量仪器