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EUV/X-ray光学元件倾斜度面形误差检测方法与测量仪器长轨面形仪(LTP)的研究

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文摘

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第一章绪论

§1.1论文研究的目的和意义

§1.2课题的提出与研究背景

§1.3研究现状与目前国内外的水平

§1.4主要研究内容

第二章同步辐射光束线与同步辐射光学元件

§2.1同步辐射光源及同步辐射光束线

§2.2同步辐射光学系统设计

§2.3同步辐射光学系统及其光学元件的特点

§2.4同步辐射光学元件的超光滑加工方法

§2.5同步辐射光学元件的检测方法

第三章EUV/X-ray光学元件检测方法的实验研究

§3.1设计要求

§3.2半径与面形检测

§3.3成像法测量实验装置

§3.4半径与面形误差测量实验

§3.5表面粗糙度测量

§3.6镀膜反射率检测

第四章LTP仪器工作原理与发展概况

§4.1仪器工作原理

§4.2 LTP仪器研制发展历史概况

第五章LTP-Ⅲ光、机、电、计总体结构方案设计

§5.1现场测量长轨面形仪(LTP-Ⅲ)总体技术指标及功用

§5.2 LTP-Ⅲ总体结构组成

§5.3光学系统图及光学头部件

§5.4 LTP-Ⅲ的机械结构

§5.5五棱镜扫描机构及直流电机半闭环伺服控制系统

§5.6探测器与数据采集卡及计算机系统

§5.7计算机控制与数据分析系统

§5.8检测调整架、激光器与底座

§5.9 LTP光学头光学系统改进设计

第六章LTP-Ⅲ光学系统调校方法

第七章LTP-Ⅲ的电路工作原理

§7.1光电二极管线阵工作电路设计

§7.2数据采集卡,A/D变换板A-826PG

§7.3控制与电源板CTRLPW

§7.4直流伺服电动机的控制系统

第八章LTP-Ⅲ的光、机、电联调与测量实验及应用

§8.1仪器装调要点

§8.2光、机、电联调及倾斜度测量实验

§8.3测量误差分析

§8.4 LTP-Ⅲ的应用——高热负载光学元件的现场测量

结论

致 谢

参考文献

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摘要

极紫外与X射线(EUV/X-ray)光学元件的加工与检测技术的研究是近代短波段光学研究的主要范畴之一.目前世界各发达国家迅速发展的同步辐射光源与光束线工程的建设需要大量的EUV/X-fay光学元件.目前只有少数国家(包括中国)能够研制这种超光滑、高精度的光学元件.其关键技术是加工工艺和检测技术.该文主要是研究EUV/X-ray光学元件面形误差的测量方法与测量仪器.对已有的测量仪器长轨面形仪LTP仪器进行了改进设计,提供一种新型的长轨面形仪LTP-Ⅲ,用于测量光学元件的倾斜度误差.最后,在结论中,作者提出了对测量仪器LTP-Ⅲ改进与发展的几点设想.

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