首页> 中国专利> 微阵列处理装置、微阵列处理装置用孔板、微阵列架以及微阵列的清洗方法

微阵列处理装置、微阵列处理装置用孔板、微阵列架以及微阵列的清洗方法

摘要

本发明的目的是提供能够充分清洗微阵列的微阵列处理装置。微阵列处理装置(30)具备:设有容纳微阵列(1)的一个或者两个以上的孔(40)的孔板(38);以及从孔抽吸液体的抽吸嘴(46),孔为上端开口的、具有微阵列的高度以上的深度的孔,并且具备凹部形状,其能够将抽吸嘴的前端插通至容纳于该孔的微阵列的下端的高度位置,抽吸嘴能够在孔内相对下降,直至该抽吸嘴的前端位于容纳于孔的微阵列的下端的高度位置。

著录项

  • 公开/公告号CN104220879B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三菱丽阳株式会社;

    申请/专利号CN201380017876.0

  • 发明设计人 清水浩司;

    申请日2013-04-04

  • 分类号G01N35/02(20060101);C12M1/00(20060101);G01N33/53(20060101);G01N37/00(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人张敬强;严星铁

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:37:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G01N35/02 变更前: 变更后: 申请日:20130404

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-03-23

    授权

    授权

  • 2015-01-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N35/02 申请日:20130404

    实质审查的生效

  • 2014-12-17

    公开

    公开

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