首页> 中国专利> 有机抗反射涂料聚合物,含该聚合物抗反射涂料组合物及其制备方法

有机抗反射涂料聚合物,含该聚合物抗反射涂料组合物及其制备方法

摘要

下式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、含有该聚合物的抗反射涂料组合物、和由该组合物制得抗反射涂层的方法。含该聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波,防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案,改进生产产率和控制K值。还可以防止涂完后由于不平衡的酸度而导致的刻痕。

著录项

  • 公开/公告号CN1175009C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-11-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海力士半导体有限公司;

    申请/专利号CN01123296.X

  • 申请日2001-06-30

  • 分类号C08F20/10;C09D133/04;

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人黄益芬

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08F 20/10 授权公告日:20041110 终止日期:20150630 申请日:20010630

    专利权的终止

  • 2004-11-10

    授权

    授权

  • 2002-01-16

    公开

    公开

  • 2001-11-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号