有机抗反射的涂层聚合物、包含所述聚合物的抗反射的涂料组合物以及其制备方法

摘要

本发明公开了防止较低膜层的背反射以及消除在通过使用193nmArF使用用于平版印刷术的光致抗蚀剂的制造超细图案的方法中由于光致抗蚀剂厚度的变化和光出现的驻波的有机抗反射的聚合物及其制备方法。更具体地讲，公开了可用于制造64M、256M、1G和4G DRAM半导体器件的超细图案的本发明的有机抗反射聚合物。也公开了含有这种有机抗反射聚合物的组合物、由其制得的抗反射涂层及其制备方法。