公开/公告号CN103346219B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-02-24
原文格式PDF
申请/专利权人 湘能华磊光电股份有限公司;
申请/专利号CN201310293483.4
发明设计人 张宇;
申请日2013-07-12
分类号H01L33/00(20100101);H01L33/06(20100101);
代理机构长沙七合源专利代理事务所(普通合伙);
代理人欧颖
地址 423038 湖南省郴州市白露塘有色金属产业园
入库时间 2022-08-23 09:35:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-24
授权
授权
2013-11-06
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/00 申请日:20130712
实质审查的生效
2013-10-09
公开
公开
机译: 通过高能离子注入的晶格匹配的InGaAs / InGaAsP多量子阱结构的光电器件外延层结构及其制造方法
机译: 外延生长的方法和使用该方法的外延层结构
机译: 外延生长的方法和使用该方法的外延层结构