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具有低正向偏置集成二极管的高电子迁移率晶体管

摘要

本发明公开了一种具有低正向偏置集成二极管的高电子迁移率晶体管。其中,该高电子迁移率晶体管包括:源极;栅极;漏极;具有二维电子气(2DEG)的第一III-V族半导体区,该二位电子气提供在源极和漏极之间的、由栅极控制的第一导电沟道;以及在第一III-V族半导体区下方并具有连接至源极或漏极且不由栅极控制的第二导电沟道的第二III-V族半导体区。第一和第二III-V族半导体区由具有不同于第一和第二III-V族半导体区带隙的高电子迁移率晶体管区将其互相隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN102956697B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英飞凌科技奥地利有限公司;

    申请/专利号CN201210298164.8

  • 申请日2012-08-20

  • 分类号

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人余刚

  • 地址 奥地利菲拉赫

  • 入库时间 2022-08-23 09:35:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-24

    授权

    授权

  • 2013-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20120820

    实质审查的生效

  • 2013-03-06

    公开

    公开

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