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双栅极横向MOSFET

摘要

双栅极横向MOSFET包括:衬底上方的漂移区、在漂移区中形成的隔离区和在漂移区中形成的沟道区。双栅极横向MOSFET包括:在漂移区中形成的漏极区和在沟道区中形成的源极区,其中,源极区和漏极区形成在隔离区的相对两侧。双栅极横向MOSFET进一步包括邻近源极区形成的第一栅极和第二栅极,其中,第一栅极和第二栅极堆叠在一起并且通过介电层隔离。

著录项

  • 公开/公告号CN103258846B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201210198959.1

  • 发明设计人 陈柏羽;

    申请日2012-06-14

  • 分类号

  • 代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:35:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-10

    授权

    授权

  • 2013-09-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/423 申请日:20120614

    实质审查的生效

  • 2013-08-21

    公开

    公开

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