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一种多配位剂无氰电镀金镀液及电镀金工艺

摘要

一种多配位剂无氰电镀金镀液及电镀金工艺,属于电镀金技术领域。所述镀液由主配位剂、辅助配位剂、氢氧化钾、碳酸钾、氯化金钾、组合添加剂和超纯水配制而成。电镀金工艺如下:一、基体的前处理;二、电镀中间镀镍层;三、电镀金:在电镀中间镀镍层之后基体进行超纯水洗,然后直接进入含有多配位剂无氰电镀金镀液的镀槽中,进行电镀金,完成电镀后,从电镀液中取出试样,用蒸馏水清洗表面,冷风干燥。本发明使用了双配位剂作为电镀金镀液中金离子的配位剂,获得了一种与单配位剂体系相比电流效率显著提高、镀层结晶更加平整、致密,应用的电流密度范围广、温度要求宽泛并且保证镀层外观金黄光亮的无氰电镀金体系。

著录项

  • 公开/公告号CN103741181B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201410012252.6

  • 申请日2014-01-10

  • 分类号C25D3/48(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2022-08-23 09:34:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-27

    授权

    授权

  • 2014-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/48 申请日:20140110

    实质审查的生效

  • 2014-04-23

    公开

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