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硅通孔壁上制作苯并环丁烯树脂电介质层的方法

摘要

本发明涉及集成电路制造和封装技术领域,公开了一种硅通孔壁上制作苯并环丁烯BCB树脂电介质层的方法。本发明中,使用BCB树脂作为硅通孔电介质层,利用了BCB树脂良好的加工性能,采用溶液浸渍法、减压旋涂法进行通孔的填充,设备、工艺简便,与前后道工艺兼容,降低了制造成本。此外,BCB树脂具有优良的热、机械和介电性能,BCB树脂作为硅通孔内的电介质层,可以减小漏电流以及硅通孔结构中的应力,提高器件的可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN102915956B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201210337342.3

  • 发明设计人 奚嘉;杨军;肖斐;

    申请日2012-09-12

  • 分类号

  • 代理机构上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人卢刚

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-13

    授权

    授权

  • 2013-10-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20120912

    实质审查的生效

  • 2013-02-06

    公开

    公开

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