法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L23/525 授权公告日:20160120 终止日期:20171126 申请日:20101126
专利权的终止
2016-01-20
授权
授权
2012-10-03
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/525 申请日:20101126
实质审查的生效
2011-07-20
公开
公开
机译: 使用该面膜结构体的面膜结构体,曝光方法和曝光装置,使用该面膜结构体制造的半导体器件和半导体装置的制造
机译: 可重复使用的内袋结构体,使用可重复使用的内袋结构体的方法,可重复使用的内袋结构体的制造以及修复可重复使用的内袋结构体的方法
机译: 使用该制造方法的中空结构体的制造方法以及中空结构体形成用基板的中空结构体形成基板以及中空结构体形成基板