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布线电路结构体及使用该结构体的半导体装置的制造方法

摘要

本发明涉及布线电路结构体及使用该结构体的半导体装置的制造方法。在基底绝缘层(1)上形成导体层(2)作为电路图形,在其上形成端子部(3),且在基底绝缘层(1)的上表面,在端子部的附近形成有支柱体(4)。此处使从成为连接对象的元件突出的凸起的突起高度为B,以基底绝缘层的上表面为基准面,使支柱体的高度为H、端子部的高度为h,使端子部的层厚为t,如下决定支柱体的高度H:在t<B的情况下,满足B<H<h+B,此外,在t≥B的情况下,满足h<H<h+B。由此,支柱体作为隔离物而起作用,端子部的焊料到达元件的电极这样的压缩被抑制。

著录项

  • 公开/公告号CN102130093B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201010564262.2

  • 发明设计人 小田高司;森田成纪;

    申请日2010-11-26

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人闫小龙

  • 地址 日本大阪府茨木市下穗积1丁目1番2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L23/525 授权公告日:20160120 终止日期:20171126 申请日:20101126

    专利权的终止

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2012-10-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/525 申请日:20101126

    实质审查的生效

  • 2011-07-20

    公开

    公开

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