法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B7/00 授权公告日:20160113 终止日期:20170729 申请日:20130729
专利权的终止
2016-01-13
授权
授权
2013-12-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B7/00 申请日:20130729
实质审查的生效
2013-11-20
公开
公开
机译: 用于euv波长范围的反射光学元件,这种元件的生成和校正方法,具有这种元件的微光刻投影物镜以及具有这种投影物镜的微光刻投影曝光系统
机译: 包括光学元件及其支撑物的光学系统,该光学元件及其支撑物可用于微光刻中的投影物镜,该光学系统具有光学元件表面的镍或硬质材料涂层以及由折射晶体材料构成的光学元件
机译: 用于校正半导体光刻的光学系统,投影物镜和投影曝光系统中的温度引起的成像误差的光学校正元件和方法