公开/公告号CN103243308B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 无锡华润上华科技有限公司;
申请/专利号CN201210029680.0
发明设计人 孙雷军;
申请日2012-02-10
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人臧霁晨
地址 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号
入库时间 2022-08-23 09:31:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-11-25
授权
授权
2013-09-11
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20120210
实质审查的生效
2013-08-14
公开
公开
机译: 化学气相沉积设备,化学气相沉积设备的指南成员以及使用化学气相沉积设备制造薄膜的方法
机译: 从化学气相沉积环境中分离元素的方法和设备,从化学气相沉积中分离元素的设备,以及从化学气相沉积环境中分离元素的设备
机译: 化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法