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形成有多晶硅掺杂区的背面接触太阳能电池

摘要

一种太阳能电池包括在多晶硅层的邻接部分中的毗邻的P型掺杂区(120)和N型掺杂区(121)。可以在薄电介质层(103)上形成多晶硅层,电介质层(103)形成在太阳能电池衬底(101)(例如,硅晶片)的背面上。多晶硅层具有相对较大的平均晶粒尺寸,以降低或消除在P型掺杂区(120)和N型掺杂区(121)之间的空间电荷区中的复合,从而增大效率。

著录项

  • 公开/公告号CN102239572B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 太阳能公司;

    申请/专利号CN200980148588.2

  • 发明设计人 戴维·D·史密斯;

    申请日2009-11-30

  • 分类号H01L31/18(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈源;张天舒

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:31:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-11-25

    授权

    授权

  • 2012-01-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20091130

    实质审查的生效

  • 2011-11-09

    公开

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