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用于改善产量的电子束光刻系统和方法

摘要

公开了用于改善产量的电子束光刻方法和装置。示例性光刻方法包括:接收具有图案布局尺寸的图案布局;缩小图案布局尺寸;以及材料层按缩小的图案布局尺寸过度曝光,从而在材料层上形成具有图案布局尺寸的图案布局。

著录项

  • 公开/公告号CN102736438B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201210073223.1

  • 发明设计人 许照荣;林世杰;王文娟;林本坚;

    申请日2012-03-19

  • 分类号

  • 代理机构北京德恒律师事务所;

  • 代理人陆鑫

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-07

    授权

    授权

  • 2012-12-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20120319

    实质审查的生效

  • 2012-10-17

    公开

    公开

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