公开/公告号CN102736438B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-10-07
原文格式PDF
申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;
申请/专利号CN201210073223.1
申请日2012-03-19
分类号
代理机构北京德恒律师事务所;
代理人陆鑫
地址 中国台湾新竹
入库时间 2022-08-23 09:30:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-10-07
授权
授权
2012-12-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20120319
实质审查的生效
2012-10-17
公开
公开
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机译: 使用电子束光刻和电子束光刻系统提高斜线特征精度和生产量的方法
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