Infmeon Technologies, Am Campeon 1-12, 85579 Neubiberg, Germany;
Infineon Technologies France, 2600 Route des Cretes, 06560 Sophia-Antipolis, France;
routing; yield; defects; critical area; lithography;
机译:亚微米光刻缺陷模拟在提高IC良率中的应用
机译:亚微米光刻缺陷模拟在IC良率提高中的应用
机译:纳米压印光刻技术的综合缺陷分析方法
机译:用于改善缺陷和光刻相关产量的路由清理方法
机译:在持续的流程改进文化中,平衡计分卡可产生更好的结果。
机译:青霉菌提高紫锥菊苷产量的发酵条件的优化。 H1使用响应面法从女贞子分离的内生真菌
机译:用特殊路由进行缺陷浸入光刻
机译:钢铸件的产量提高和缺陷减少