法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-19
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F9/00 变更前: 变更后: 申请日:20101228
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2015-09-30
授权
授权
2012-09-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F9/00 申请日:20101228
实质审查的生效
2012-07-04
公开
公开
机译: 对准测量系统,用于确定光刻设备的对准的方法和光刻设备
机译: 包括对准子系统的光刻设备,利用对准和对准结构来提高周期性对准系统的捕捉范围和鲁棒性的装置的制备方法
机译: 用于光刻设备的对准系统,用于测量对准标记的位置