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用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法及光刻曝光系统

摘要

本发明公开一种用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法,包括:指定多个掩模版和投影物镜的光瞳,获得多种照明光源图像,建立该多种照明光源主成分和空间像之间的关系;在该指定中选择一组掩模版和光瞳,对其名义光源进行主成分分析,获得各个主成分的名义权重,结合该多种照明光源主成分和空间像之间的关系利用查表算法和线性回归算法计算出该各个主成分的目标权重,从而获得光源参数设置变化量和光源内部可动元件调整量。本发明同时公开一种用于补偿光刻成像质量的光刻曝光系统。

著录项

  • 公开/公告号CN103207528B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-08-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201210013381.8

  • 申请日2012-01-17

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11278 北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人王光辉

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:29:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-01

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20120117

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2015-08-26

    授权

    授权

  • 2015-08-26

    授权

    授权

  • 2013-08-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120117

    实质审查的生效

  • 2013-08-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120117

    实质审查的生效

  • 2013-07-17

    公开

    公开

  • 2013-07-17

    公开

    公开

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