首页> 中国专利> 光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件

光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件

摘要

本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4),所述第一层包括第一材料,并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2),所述第二层包括第二材料,并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3),位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料,并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游,以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-29

    授权

    授权

  • 2013-04-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/20 申请日:20090224

    实质审查的生效

  • 2013-03-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号