光学材料亚表面损伤层厚度的测量方法

摘要

本发明涉及光学精密测量技术领域，特别是一种测量硬脆性光学材料亚表面损伤层厚度的方法，它利用了HF酸的腐蚀性，对加工样件和基体样件（指已完全消除了亚表面损伤的工件）在相同条件下腐蚀，同时，将腐蚀时间及腐蚀操作次序分段标记。第n+1时间段开始，加工样件和基体样件的腐蚀速率相等，则可认为在n时间段，加工样件已被腐蚀到基体，为了有效减小因为实验环境因素及多步重复操作引起的实验积累误差，引入了修正系数Ki，n时间段所对应的积累腐蚀深度为其亚表面损伤层深度。本发明方法测量过程简单快捷，测试精度高，对测试设备要求低。