公开/公告号CN102686972B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-04-08
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN200980162499.3
申请日2009-09-18
分类号G01B9/02(20060101);G01B11/24(20060101);G02B26/06(20060101);G01M11/02(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址 德国上科亨
入库时间 2022-08-23 09:25:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-04-08
授权
授权
2012-11-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 9/02 申请日:20090918
实质审查的生效
2012-09-19
公开
公开
机译: 一种利用测量装置测量被测物体光学表面形状的方法,包括将被测物体布置在物体支架上,设置多种测量配置,以及光学表面的干涉测量面积
机译: 确定光学测试表面形状的方法,涉及从光学测试表面上的单入射角测量光束所测量的波前确定光学器件对干涉测量结果的影响
机译: 干涉测量装置,波前像差测量装置,形状测量装置,曝光装置,干涉测量方法,投影光学系统制造方法和曝光装置制造方法