首页> 中国专利> 半导体层的制造方法,光电转换装置的制造方法及半导体层形成用溶液

半导体层的制造方法,光电转换装置的制造方法及半导体层形成用溶液

摘要

本发明的实施方式的半导体层的制造方法具备:准备第一化合物的工序、准备第二化合物的工序、制作半导体层形成用溶液的工序、和采用该半导体层形成用溶液制作含有I-III-VI族化合物的半导体层的工序。所述第一化合物含有:第一含有硫族元素的有机化合物、第一路易斯碱、I-B族元素和第一III-B族元素。另外,所述第二化合物含有有机配体和第二III-B族元素。另外,所述半导体层形成用溶液含有所述第一化合物、所述第二化合物和有机溶剂。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/04 授权公告日:20150128 终止日期:20190125 申请日:20110125

    专利权的终止

  • 2015-01-28

    授权

    授权

  • 2015-01-28

    授权

    授权

  • 2012-10-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/04 申请日:20110125

    实质审查的生效

  • 2012-10-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/04 申请日:20110125

    实质审查的生效

  • 2012-08-29

    公开

    公开

  • 2012-08-29

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号