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金属基电路基板的连续体形成方法以及金属基电路基板的连续体

摘要

本发明提供即使冲压加工折断用构造也能够维持各电路图案间的位置尺寸的金属基电路基板的连续体形成方法以及金属基电路基板的连续体。该金属基电路基板的连续体形成方法具备:在金属基板上隔着绝缘层(5)以设定的间隔形成电路图案(7),并形成分别具备电路图案(7)的电路基板(9)的连续体(1)的连续体形成工序;在预定将电路基板(9)折断分离的线上通过冲压加工局部地形成折断分离用的凹口(11、13)的凹口形成工序;以及在线上的凹口(11、13)以外的部位贯通形成狭缝(15、17、19)的狭缝形成工序。

著录项

  • 公开/公告号CN102726128B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本发条株式会社;

    申请/专利号CN201180004766.1

  • 申请日2011-05-17

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人张敬强

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:23:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-28

    授权

    授权

  • 2012-12-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05K 3/00 申请日:20110517

    实质审查的生效

  • 2012-10-10

    公开

    公开

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