用于在硅衬底上形成钽沉积膜的反应腔及其应用

摘要

本发明提供一种用于在硅衬底上形成钽沉积膜的反应腔，包括反应腔本体，所述反应腔本体的腔室内侧壁上设有一空腔，所述空腔内设有固定支架，所述固定支架具有伸缩部件，固定支架在所述伸缩部件带动下伸出空腔，所述固定支架可伸出空腔一端设有钽环。本发明提供的反应腔用于在硅衬底上形成钽沉积膜的反应腔能减少钽环上的钽薄膜沉积，防止沉积在钽环的薄膜过厚，产生钽薄膜开裂剥落的问题。