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非易失性半导体存储器晶体管、非易失性半导体存储器及非易失性半导体存储器的制造方法

摘要

本发明公开了一种非易失性半导体存储器晶体管、非易失性半导体存储器及非易失性半导体存储器的制造方法,可增大浮置栅极与控制栅极间的电容,并且可降低控制栅极与岛状半导体间的寄生电容。构成非易失性半导体存储器的非易失性半导体存储器晶体管具备:岛状半导体(301),从衬底侧依序形成有源极区域(303)、沟道区域(304)及漏极区域(302);中空柱状的浮置栅极(306),以包围沟道区域外周的方式,使沟道绝缘膜(305)介设于其间而配置;及中空柱状的控制栅极(308),以包围该浮置栅极外周的方式,使多晶硅层间绝缘膜(307)介设于其间而配置;在浮置栅极、与控制栅极的上面、下面及内侧面之间,介设配置有多晶硅层间绝缘膜。

著录项

  • 公开/公告号CN102280492B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201110165198.5

  • 发明设计人 舛冈富士雄;中村广记;

    申请日2011-06-10

  • 分类号

  • 代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;

  • 代理人臧建明

  • 地址 新加坡新加坡柏龄大厦

  • 入库时间 2022-08-23 09:22:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-12-24

    授权

    授权

  • 2012-02-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/788 申请日:20110610

    实质审查的生效

  • 2011-12-28

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 29/788 变更前: 变更后: 登记生效日:20111117 申请日:20110610

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-12-14

    公开

    公开

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