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气源分子束外延生长锗硅异质结双极晶体管材料掺杂方法

摘要

一种气源分子束外延生长锗硅异质结双极晶体管材料掺杂方法,其是用乙硼烷∶磷烷为掺杂剂生长N-P-N双极晶体管材料时,将乙硼烷、磷烷加热使其裂解为低分子量的原子团束流,降低残余硼、磷杂质的本底浓度,并减少氢对硅生长速率的影响;掺硼结束时,速关断乙硼烷气流并降低乙硼烷裂解炉温度,可将硼严格限制在基区内;生长硅发射区时,将磷炉温度升高,可提高磷掺杂浓度并减少磷烷对硅生长速率的影响。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-05-09

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2004-09-22

    授权

    授权

  • 2003-01-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-10-16

    公开

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  • 2001-07-11

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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