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非接触式控制铸锭单晶硅籽晶熔化剩余高度的方法

摘要

本发明涉及一种非接触式控制铸锭单晶硅籽晶熔化剩余高度的方法,具有如下步骤:1)在坩埚底部铺设籽晶;2)在籽晶上铺设低堆积密度硅料层;3)在低堆积密度硅料层上,铺设高堆积密度硅料层;4)在高堆积密度硅料层上放入掺杂剂及其它多晶硅原料;5)将按照1至4步骤进行装料的坩埚置于铸锭炉中熔化,通过激光测距仪实时测量硅熔体液面;6)当监测到硅熔体液面高度加快下降时,控制铸锭炉由熔化阶段跳步至长晶阶段,并开始向上结晶。该方法通过装料方式和激光测量液位相结合的方式,来控制籽晶熔化剩余高度,具有精度高、稳定、自动化程度高、成本低等优点,可以稳定得把铸锭单晶生产熔化过程籽晶剩余高度控制在目标值±2mm范围内。

著录项

  • 公开/公告号CN102586857B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 常州天合光能有限公司;

    申请/专利号CN201210047063.3

  • 发明设计人 叶宏亮;陈雪;黄振飞;

    申请日2012-02-28

  • 分类号

  • 代理机构常州市维益专利事务所;

  • 代理人王凌霄

  • 地址 213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:21:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-01

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C30B 11/00 变更前: 变更后: 申请日:20120228

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2018-05-01

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C30B 11/00 变更前: 变更后: 申请日:20120228

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-11-26

    授权

    授权

  • 2014-11-26

    授权

    授权

  • 2012-09-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 11/00 申请日:20120228

    实质审查的生效

  • 2012-09-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 11/00 申请日:20120228

    实质审查的生效

  • 2012-07-18

    公开

    公开

  • 2012-07-18

    公开

    公开

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