法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-05
授权
授权
2011-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20100827
实质审查的生效
2011-05-18
公开
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机译: 基板处理方法,基板处理装置,基板处理系统,基板处理系统的控制装置,半导体基板制造方法以及半导体基板
机译: 基板处理方法,基板处理装置,基板处理系统,基板处理系统的控制装置,半导体基板的制造方法以及半导体基板
机译: 真空处理系统中使用的真空处理系统,基板输送固定装置和真空闸阀,以及真空处理系统中使用的基板的操作方法