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一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法

摘要

本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。该设备包括基台,其用于放置待取向显示面板,与待取向显示面板连接的显示面板驱动系统,待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组;第一基板上设有第一偏振片,第一偏振片上设有光取向层;从第二基板射向第一基板的光为线性偏振光;第一曝光光源,位于靠近所述第二基板的一侧;第二曝光光源,位于靠近所述第一基板的一侧,第二曝光光源射出的光为线性偏振光,线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。本发明提供的自对位曝光设备,避免采用掩膜版制作相位差板,最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。

著录项

  • 公开/公告号CN103488057B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201310356415.8

  • 发明设计人 武延兵;

    申请日2013-08-15

  • 分类号G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);G02B5/30(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王莹

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-09-03

    授权

    授权

  • 2014-02-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130815

    实质审查的生效

  • 2014-01-01

    公开

    公开

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