公开/公告号CN102177570B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-08-06
原文格式PDF
申请/专利权人 美光科技公司;
申请/专利号CN200980140234.3
申请日2009-09-10
分类号
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人宋献涛
地址 美国爱达荷州
入库时间 2022-08-23 09:20:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-08-06
授权
授权
2011-11-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20090910
实质审查的生效
2011-09-07
公开
公开
机译: 它形成由底层膜材料形成的平版印刷术,组合物形成下层膜平版印刷术和用途,并使用下层膜平版印刷术,即图案的形成方法。
机译: 用于形成平版印刷术的下层膜的材料,用于形成平版印刷术的下层膜的组合物,用于平版印刷术的下层膜和图案形成方法
机译: 用于平版印刷术的底层膜的化合物,材料,用于平版印刷术的底层膜和图案的形成方法