光学系统的照明单元和用于重复地将掩模图案成像在基片上的装置

摘要

用于光学系统的照明单元(2)包括一个依次配列有辐射源(3)和第一集光器(11)的照明系统(1)。照明单元(2)还包括一个具有光敏检测器(47)的检测系统(45)。照明系统(1)包括一个第二集光器(13)。具有至少一个棱镜(17)的棱镜系统(15)配置在两个集光器(11，13)之间的光径中。棱镜系统(15)具有一个将光耦合出照明系统(1)的分光面和一个将光耦合出棱镜系统(15)的出光面，而基本上不影响主光径中的亮度。检测系统(45)配置在棱镜系统(15)的出光面邻近，备有集光装置。本发明还与配备这种照明单元(2)的光学设备(100)，特别是光刻投影设备有关。