公开/公告号CN1147703C
专利类型发明授权
公开/公告日2004-04-28
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN02111735.7
申请日2002-05-17
分类号G01B9/02;G01B11/24;
代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-23 08:56:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-07-22
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2004-04-28
授权
授权
2003-02-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-11-13
公开
公开
2002-08-14
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 透明平行平板表面形貌和厚度不均匀性测量的干涉条纹分析方法
机译: 用白光干涉仪测量薄膜厚度并绘制其表面形貌的方法
机译: 干涉仪和测量两个垂直主子午线中曲率不相等的非旋转对称表面形貌的方法