首页> 中国专利> 利用场感应反铁磁性或铁磁性耦合的自旋转矩转移单元结构

利用场感应反铁磁性或铁磁性耦合的自旋转矩转移单元结构

摘要

本发明提供一种包括软磁性层(104、204、254、304、354)及耦合层(106、206、256、306、356)的磁性存储器单元(50),及一种操作所述存储器单元(50)的方法。所述存储器单元(50)包括具有自由铁磁性层(108、208、258、308、358)及钉扎铁磁性层(112、212、262、312、362)的堆叠(52、100、200、250、300、350),且也可形成软磁性层(104、204、254、304、354)及耦合层(106、206、256、306、356)以作为所述堆叠(52、100、200、250、300、350)中的层。所述耦合层(106、206、256、306、356)可导致反铁磁性耦合以诱导所述自由铁磁性层(108、208、258、308、358)在反平行于所述软磁性层(104、204、254、304、354)的磁化的方向上被磁化,或所述耦合层(106、206、256、306、356)可导致铁磁性耦合以诱导所述自由铁磁性层(108、208、258、308、358)在平行于所述软磁性层(104、204、254、304、354)的所述磁化的方向上被磁化。

著录项

  • 公开/公告号CN102203869B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN200980144286.8

  • 发明设计人 刘峻;古尔特杰·桑胡;

    申请日2009-10-22

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人宋献涛

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-16

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C 11/16 申请日:20091022

    实质审查的生效

  • 2011-09-28

    公开

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