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振动陀螺激励罩电极刻蚀平衡调整装置及方法

摘要

本发明公开了一种振动陀螺激励罩电极刻蚀平衡调整装置及方法,包括工作平台、夹具、定位基柱和测量系统;测量系统包括三个激光位移传感器和数据处理及显示单元,三个激光位移传感器的光源线与其在激励罩外圆柱面上投影点的切线垂直,其中两个激光位移传感器的光源点连线与定位基柱轴线平行;第三个激光位移传感器的光源点与另外两个激光位移传感器其中一个的光源点在同一圆周上,该同一圆周的圆心在定位基柱轴线上,且两者光源线垂直相交于定位基柱中心轴上。本发明满足激励罩各项性能参数,降低工艺过程成本,工艺简单,操作方便,缩短刻蚀工艺时间,表面无划痕,大大提高激励罩电极刻蚀的成品率。

著录项

  • 公开/公告号CN102744524B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201210261078.X

  • 发明设计人 杨勇;方针;余波;

    申请日2012-07-26

  • 分类号

  • 代理机构重庆博凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人李海华

  • 地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-25

    授权

    授权

  • 2012-12-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 26/42 申请日:20120726

    实质审查的生效

  • 2012-10-24

    公开

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