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真空吸附控制机构装置、薄膜粘贴装置、薄膜粘贴方法

摘要

本发明的目的在于提供一种结构简单并且能够高精度地将薄膜粘贴于被粘贴物的真空吸附控制机构装置。本发明的真空吸附控制机构装置的特征在于,包括:第一部件,在表面具有能够与减压源连接的多个吸附孔;和第二部件,被设置为能够与多个所述吸附孔接触,并且能够相对于所述第一部件进行相对移动,所述第二部件具有将与所述第一部件和所述第二部件的相对位置对应的数量的吸附孔与所述减压源连接的构件。

著录项

  • 公开/公告号CN101795950B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NLT科技股份有限公司;

    申请/专利号CN200880104980.2

  • 发明设计人 小寺秀树;

    申请日2008-08-20

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孙志湧

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-02

    授权

    授权

  • 2012-01-04

    著录事项变更 IPC(主分类):B65H 37/04 变更前: 变更后: 申请日:20080820

    著录事项变更

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):B65H 37/04 申请日:20080820

    实质审查的生效

  • 2010-08-04

    公开

    公开

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