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具有低微坑密度(MPD)的锗锭/晶圆和其制造系统及方法

摘要

公开了用于晶体生长的系统和方法,包括在已生长的锗晶体中减少微坑腔密度的特征。在一个示例实施方式中,提供了一种方法:将带有原材料的安瓿插入具有加热源的炉;使用垂直生长法生长晶体,其中实现结晶化温度梯度相对于原材料/坩埚的运动以熔化该原材料;以及,以预定晶体生长长度生长该原材料以实现单晶晶体,其中可重复地提供具有减少的微坑密度的单晶锭。

著录项

  • 公开/公告号CN102356186B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AXT公司;北京通美晶体技术有限公司;

    申请/专利号CN201080002216.1

  • 发明设计人 刘卫国;李晓;

    申请日2010-12-13

  • 分类号

  • 代理机构北京北翔知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐燕

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-04

    授权

    授权

  • 2013-01-02

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C30B 29/08 变更前: 变更后: 登记生效日:20121130 申请日:20101213

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-03-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/08 申请日:20101213

    实质审查的生效

  • 2012-02-15

    公开

    公开

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