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基于沟道阵列结构的异质结场效应晶体管

摘要

本发明涉及一种基于沟道阵列结构的异质结场效应晶体管,其包括异质结,所述异质结包括由上到下层叠设置的第一半导体层和第二半导体层,所述第一半导体层和第二半导体层界面处形成有二维电子气,所述第一半导体层上设置有源极、漏极和栅极,所述栅极设置于源极和漏极之间,所述栅极下方的异质结内形成有一条以上沟道,且所述沟道两端分别指向源极和漏极。本发明采用基于沟道阵列的结构设计,并通过将栅金属覆盖在沟道的顶部和两边的侧壁形成环栅结构,从而增强了对沟道的调制能力。本发明适用于一切基于异质结界面处二维电子气工作的半导体电子器件,并可同时满足实际应用的各种要求。

著录项

  • 公开/公告号CN102201442B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201110083011.7

  • 发明设计人 蔡勇;刘胜厚;张宝顺;

    申请日2011-04-02

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-18

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20110402

    实质审查的生效

  • 2011-09-28

    公开

    公开

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