法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-14
授权
授权
2012-06-13
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/12 申请日:20100809
实质审查的生效
2011-04-20
公开
公开
机译: 半导体器件的外延基板,肖特基结结构的漏电流控制方法以及肖特基结结构
机译: 用于半导体器件的外延衬底,肖特基结结构以及用于肖特基结结构的泄漏电流抑制方法
机译: 用于半导体器件的外延衬底,肖特基结结构以及用于肖特基结结构的泄漏电流抑制方法