法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-21
授权
授权
2011-09-28
实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20090903
实质审查的生效
2011-08-17
公开
公开
机译: 用于等离子显示面板的透明电介质浆料组合物和包含其形成的电介质浆料层的电介质干膜
机译: 处理镶嵌结构中的多孔低k电介质材料以在多孔低k电介质材料的蚀刻过孔和沟槽表面上形成无孔电介质扩散阻挡层的方法
机译: 用于氟化低K电介质的自形成金属氟化物阻挡层