一种增强铝制程金属层与光阻附着力的表面处理方法

摘要

本发明公开了一种增强金属层与光阻附着力的表面处理方法，用在金属层上涂覆光刻胶方法中，其中，在基底上制成有金属层及覆盖在金属层上的金属阻挡层，主要包括以下步骤：在反应腔室中通入含氧气体并对含氧气体进行等离子化，对所述覆盖在金属层上方的金属阻挡层进行高温等离子体氧化热处理，生成一层位于所述覆盖在金属层上方的金属阻挡层表面的金属氧化物薄层；在反应腔室中通入硅基有机物化合物气体，在所述金属氧化物薄层表面上对所述硅基有机物化合物进行化学吸附产生一层吸附层，将反应腔室内多余的所述硅基有机物化合物气体抽离，仅保留所述吸附层；将所述吸附层在等离子体活化反应下生成一层第一粘结过渡层。