法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/3065 授权公告日:20140402 终止日期:20140707 申请日:20090707
专利权的终止
2014-04-02
授权
授权
2011-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20090707
实质审查的生效
2011-06-08
公开
公开
机译: 降低光刻后线宽粗糙度的等离子方法
机译: 降低光刻后线宽粗糙度的等离子方法
机译: 使用含有叔丁基甲基氢氧化铵,可溶聚合物和溶剂的正性光致抗蚀剂溶液降低线宽粗糙度的方法