Materials Science and Engineering, Cornell University, Bard Hall, Ithaca, NY USA 14853;
Materials Science and Engineering, Cornell University, Bard Hall, Ithaca, NY USA 14853;
Materials Science and Engineering, Cornell University, Bard Hall, Ithaca, NY USA 14853;
photoacid generator; laser spike annealing; post exposure bake; reaction kinetics; diffusion; line width roughness;
机译:使用激光诱导的亚毫秒加热,可控制降低图案化抗蚀剂聚合物的粗糙度
机译:光酸产生剂对材料粗糙度的贡献
机译:通过CO_2激光峰值退火对化学放大的抗蚀剂进行亚毫秒曝光后烘烤
机译:通过曝光后烘烤改善Pt基超细纳米棒的线边缘粗糙度
机译:使用电流反馈运算放大器的信号发生器的设计。
机译:用于紫外或近紫外LED的碘鎓盐的设计用于光酸产生剂和聚合目的
机译:光酸发生器浓度及曝光后烘烤温度对ARF准分子激光抗蚀剂溶出行为的影响。