法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-03-05
授权
授权
2012-09-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120413
实质审查的生效
2012-08-01
公开
公开
机译: 用于通过极紫外光刻系统的投影透镜将物平面中的物场成像到物平面中的像场上的成像光学系统,具有遮蔽孔以反射入射在光学不活动的表面上的光
机译: 用于航空影像计量系统的放大成像镜头,例如用于制造半导体元件的光刻掩模的特性影响的模拟,图像平面代表透镜场平面
机译: 线性透镜阵列成像系统,用于在图像平面上形成缩小或放大的图像