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一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法

摘要

一种用于缩小投影超分辨成像的器件和光刻方法。器件主要结构特征为多层交替叠加的金属和介质薄膜,薄膜界面为特殊设计的曲面。在薄膜结构最外层掩模物信息以一定缩小倍率成像传递到另外一侧最外层表面,该表面外为光刻胶,实现缩小投影超分辨成像光刻。或者通过投影光学系统将掩模图形投影成像到超分辨成像器件的物平面上,再以一定缩小倍率成像传递到器件另外一侧最外层表面,该表面外为光刻胶,实现缩小投影超分辨成像光刻。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-08-08

    授权

    授权

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/00 申请日:20091225

    实质审查的生效

  • 2010-08-04

    公开

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