管理远紫外(EUV)光刻装置的腔之间的气体流动的系统

摘要

一种气体流动管理系统，包括：至少部分地围住第一空间和第二空间的第一和第二密封壁；在第一空间中产生等离子体的系统，该等离子体发出远紫外光；约束从第一空间流向第二空间的流动的伸长本体，该本体至少部分地围住一过道并具有使EUV光从第一空间进入过道的第一开口端以及使EUV光离开过道进入第二空间的第二开口端，该本体的形状建立相对第一和第二端具有减小横截面积的位置；以及离开一孔口的气体流，该孔口被设置成在本体的第一端和具有减小横截面积的位置之间的某一位置将气体引入所述过道。