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真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法

摘要

当进行挡板(21)的位置检测时,从检测器(光传感器)(24)例如照射激光(L)。照射的激光(L)经由腔室(1)的窗(25)到达挡板(21)。然后,由挡板(21)的表面反射并再次射入检测器(24)。检测器(24)检测从该激光(L)的射出到反射光的射入的时间。

著录项

  • 公开/公告号CN102449188B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社爱发科;

    申请/专利号CN201080023988.3

  • 发明设计人 藤井佳词;

    申请日2010-06-23

  • 分类号

  • 代理机构北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人齐葵

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-15

    授权

    授权

  • 2012-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20100623

    实质审查的生效

  • 2012-05-09

    公开

    公开

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