用于在集成电路制造中形成亚基本图线尺寸图形的方法

摘要

一种用于在集成电路的制造中形成亚基本图线尺寸图形的方法，包括：提供一个其上沉积了介电层的基底；在该介电层上形成一个开口；在该基底之上沉积一个绝缘层，填充上述开口并覆盖所述介电层；以及化学机械抛光所述绝缘层，以暴露出所述介电层并在所述开口内形成一个绝缘柱，其中，基底被过度抛光，以除去在所述绝缘柱和所述介电层的界面处的介电层部分，通过除去该部分形成的沟槽构成亚基本图线尺寸图形。